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서정훈 변호사

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T.02-3703-4580 F.02-737-9091/9092 E.junghun.seo@kimchang.com

관련 분야

프로필

경력

김·장 법률사무소 (2013-현재)

삼성전자 미국법인 주재원 수석엔지니어 (2007-2009)

삼성전자 반도체연구소 책임연구원(최종 직위) (2001-2006)

주요 활동펼치기

수상

  • Leading Lawyer: TMT (리걸타임즈, 2023)

저서 및 외부활동
    • 외국 특허괴물의 폐해를 억제하기 위한 ‘한국형 특허관리 사업모델’에 관한 연구, 경영과 법 제 4권 (공저, 서강대학교 법학연구소, 2010.12.)
    • “Investigation of the Contact Resistance Between Ti/TiN and Ru in M1/Plate Contacts of RIS (Ruthenium Insulator Silicon) Capacitor”, JJAP (Japanese Journal of Applied Physics) (공저, 2003)
    • “Plasma Induced Damage on Sub-50Ågate Oxide by PE-CVD Ti”, PPID (Plasma and Process Induced Damage) (공저, 2003)
    • “The Improved CVD-Al Metallization for Deep Small Contact Filling Using Selective Wetting Process”, IITC (International Interconnect Technology Conference) (2003)
    • “Synthesis of Polyimides Containing Triazole to Improve Their Adhesion to Copper Substrate”, Journal of Adhesion Science and Technology, Vol.16, 1839-1851 (2002)
    • “Enhancement of Contact Filling Characteristics in CVD-Al Metallization with Plasma-Treated MOCVD-TiN Wetting Layer”, AMC (Advanced Metallization Conference) (2002)
    • “Investigation of the Contact Resistance Between Ti/TiN and Ru in M1/Plate Contacts of RIS (Ruthenium Insulator Silicon) Capacitor”, SSDM (Solid State Device Materials) (공저, 2002)
     
    발명특허: 국내등록특허 34건; 해외출원특허 32건 (2009년 기준)

학력

    제2회 변호사시험 합격 (2013)

    서강대학교 법학전문대학원 (법학전문석사, 2013)

    포항공과대학교 (공학석사, 전자컴퓨터공학, 2001)

    연세대학교 (공학사, 화학공학, 1999)

자격

    변호사, 대한민국 (2013)

언어

한국어, 영어

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서정훈
변호사


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F. 02-737-9091/9092
     
E. junghun.seo@kimchang.com

  




    김·장 법률사무소 (2013-현재)

    삼성전자 미국법인 주재원 수석엔지니어 (2007-2009)

    삼성전자 반도체연구소 책임연구원(최종 직위) (2001-2006)






수상

  •   Leading Lawyer: TMT (리걸타임즈, 2023)

저서 및 외부활동

  •   외국 특허괴물의 폐해를 억제하기 위한 ‘한국형 특허관리 사업모델’에 관한 연구, 경영과 법 제 4권 (공저, 서강대학교 법학연구소, 2010.12.)
  •   “Investigation of the Contact Resistance Between Ti/TiN and Ru in M1/Plate Contacts of RIS (Ruthenium Insulator Silicon) Capacitor”, JJAP (Japanese Journal of Applied Physics) (공저, 2003)
  •   “Plasma Induced Damage on Sub-50Ågate Oxide by PE-CVD Ti”, PPID (Plasma and Process Induced Damage) (공저, 2003)
  •   “The Improved CVD-Al Metallization for Deep Small Contact Filling Using Selective Wetting Process”, IITC (International Interconnect Technology Conference) (2003)
  •   “Synthesis of Polyimides Containing Triazole to Improve Their Adhesion to Copper Substrate”, Journal of Adhesion Science and Technology, Vol.16, 1839-1851 (2002)
  •   “Enhancement of Contact Filling Characteristics in CVD-Al Metallization with Plasma-Treated MOCVD-TiN Wetting Layer”, AMC (Advanced Metallization Conference) (2002)
  •   “Investigation of the Contact Resistance Between Ti/TiN and Ru in M1/Plate Contacts of RIS (Ruthenium Insulator Silicon) Capacitor”, SSDM (Solid State Device Materials) (공저, 2002)
 
발명특허: 국내등록특허 34건; 해외출원특허 32건 (2009년 기준)





학력

    제2회 변호사시험 합격 (2013)

    서강대학교 법학전문대학원 (법학전문석사, 2013)

    포항공과대학교 (공학석사, 전자컴퓨터공학, 2001)

    연세대학교 (공학사, 화학공학, 1999)


자격

    변호사, 대한민국 (2013)


언어
  •    한국어, 영어





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